不同類型的偏光膜均以其基本結構“原板”為基礎——兩層三醋酸纖維素酯薄膜（TAC）夾一層聚乙烯醇（PVA），業內稱為“原板”。
　　根據產品的具體要求，通過光學涂布生產設備在原板的一側或兩側分別復合不同功能的光學膜，如反射膜、半透膜、位相差膜等，由此形成不同用途的偏光膜成品。
　　光學涂布生產設備如何實現偏光膜生產？
　　涂布生產設備說明
　　偏光膜涂布生產設備的流程圖如下圖。與大多數涂布設備類似，主要由基材（如離型膜）放卷裝置、接膜裝置、基材蓄膜裝置、電暈裝置、涂布頭、干燥箱、UV固化裝置、原板放卷、原板蓄膜裝置、貼合裝置、裁片堆疊裝置、涂布貼合產品收卷裝置等組成。
　　不同的是，偏光膜涂布生產設備與其他光學膜涂布設備對環境潔凈度要求極高，涂布頭及干燥箱要求在1000級以上，有的甚至達到100級。
　　光學涂布生產設備如何實現偏光膜生產
　　常見裝置介紹
　　離型膜放卷裝置
　　放卷裝置為雙工位，主要考慮到連續生產的需要。當一卷膜接近用完時，需做好與下一卷膜連接的準備。放卷裝置通常配置對邊裝置，以保證膜按規定的路徑運行。
　　接膜裝置
　　此裝置在生產速度較高或膜的幅寬較寬時才配置使用。偏光膜涂布的生產速度與普通的如粘膠帶涂布速度動輒上100m/min不同。
　　通常速度在（8～10）m/min，生產速度超過（30～50）/min的很少。因此幅寬1m以下時直接人工接膜即可。
　　蓄膜裝置
　　此裝置主要是為換卷接膜時進行膜的儲備，因為接膜的時候接膜處會短暫停止，而生產是連續的，蓄膜就是保證不影響生產的連續性。
　　蓄膜的長度設計需考慮正常的生產速度及接膜所需的時間。太短來不及接膜，太長浪費設備投資與安裝空間。
　　電暈裝置
　　電暈裝置的使用是根據需要對涂布的一面進行表面電擊處理，使其具有更高的附著性。
　　標簽：光學離型膜